拓荆科技股份有限公司（以下简称 拓荆公司 或公司 ）成立于2010年4月，2022年4月20日在上海证券交易所科创板成功上市。公司总部位于辽宁省沈阳市浑南区，并在北京、上海、海宁、美国成立了四家子公司。

公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。目前，公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于28nm及以上制程集成电路制造产线。

拓荆科技经过十余年的创新发展，已成为国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，也是国内领先的ALD设备厂商。公司以国家级高层次人才为核心，已经建成了一支国际化、专业化的半导体薄膜沉积设备研发技术团队。公司先后多次承担国家重大专项/课题，坚持自主创新，构建了完善的知识产权体系，拥有多项国际先进的核心技术，设备性能及关键指标均达国际同类设备水平。

拓荆科技以建立 世界领先的薄膜设备公司 为愿景，未来将继续致力于高端半导体设备的研发及产业化，扩大现有设备市场占有率，提高公司设备的技术先进性，丰富公司设备种类，拓展技术应用领域，并开拓国际市场。